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光學行業(yè)超純水設(shè)備工藝流程及優(yōu)點簡介

來源:杭州純水設(shè)備??????2021-11-19 15:56:01??????點擊:

杭州純化水設(shè)備http://uro-mug.com】光學行業(yè)超純水設(shè)備工藝流程及優(yōu)點簡介超純水是指既將水中的導電介質(zhì)幾乎完全去除,又將水中不離解的膠體物質(zhì)、氣體及有機物均去除至很低程度的水。超純水的電阻率一般在18MΩ*cm左右或接近18.25MΩ*cm極限值。

一般的純水設(shè)備工藝很難達到超純水設(shè)備的水質(zhì)要求,采用預處理、反滲透技術(shù)、超純化處理以及后級處理四大步驟,多級過濾、高性能離子交換單元、超濾過濾器、紫外燈、除TOC裝置等多種處理方法,電阻率方可達18.25MΩ*cm。

純水設(shè)備采用的是目前較為先進的EDI去電離子系統(tǒng),其電阻率可達18MΩ*cm以上。

超純水系統(tǒng)工藝流程

原水→原水加壓泵→石英砂過濾器→活性炭過濾器→軟水器→反滲透主機→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→精制混床→0.2μm精密過濾器→用水點。純水設(shè)備實驗室純水設(shè)備。杭州純化水設(shè)備,杭州GMP純化水設(shè)備。 半導體純水設(shè)備。